Beschreibung
Als führender Hersteller von Submikron-Siliziumpulver Mit über 15 Jahren bahnbrechender Nanotechnologie-Expertise betreibt unser Werk die modernsten Mahl- und Klassifizierungsanlagen in der Provinz Fujian, China, die speziell für die Herstellung ultrafeiner Submikron-Siliziumpulver konzipiert sind. Unsere Produktionsanlage produziert hochwertiges Submikron-Siliziumpulver in drei präzisen Größenbereichen (0,3 µm, 0,5 µm, <1 µm) in zwei hochreinen Qualitäten, um die anspruchsvollsten Anforderungen in der fortschrittlichen Nanotechnologie, Quantenelektronik und Halbleiteranwendungen der nächsten Generation zu erfüllen.
Technische Spezifikationen für Submikron-Siliziumpulver
Herstellungsprozess und Qualitätskontrolle
- Rohstoff: Hochreines Siliziummetall (99,99–99,999 % Ausgangsreinheit)
- Schleifmethode: Proprietäres Nanomahlen in einer hochreinen Argonatmosphäre
- Klassifizierungstechnologie: Fortschrittliche Nanopartikeltrennung mit Quantenpräzision
- Reinraumverarbeitung: Reinraumumgebung der ISO-Klasse 10 für Quantenanwendungen
- Oberflächentechnik: Oberflächenkontrolle und -funktionalisierung auf atomarer Ebene
- Partikelgrößenoptionen:
- 00,3-µm-Sorte: D50: 0,25-0,35 µm
- 00,5-µm-Sorte: D50: 0,45-0,55 µm
- <1 µm Güteklasse: D50: 0,7-0,9 µm
- Qualitätstests: GDMS, TEM, dynamische Lichtstreuung, Quantencharakterisierung
- Produktionskapazität: 25 MT/Monat Submikron-Siliziumpulver
Physikalische Eigenschaften (typisch)
- Durchschnittliche Partikelgröße: 0,3–1,0 µm, je nach Sorte
- Partikelgrößenbereich: 0,1–1,5 µm (sortenabhängig)
- Schüttdichte: 0,2–0,5 g/cm³
- Klopfdichte: 0,4–0,8 g/cm³
- Partikelform: Sphärische Nanopartikel mit kontrollierter Morphologie
- Farbe: Hellgrau bis weiß
- Oberfläche: 8,0–25,0 m²/g (BET-Methode)
- Agglomeration: Minimal (kontrolliert durch Oberflächenbehandlung)
- Sauerstoffgehalt: <50 ppm (Quantenqualität: <10 ppm)
- Kristallinität: >99,8 % (Einkristalldomänen)
Submikron-Siliziumpulver-Qualitätsvarianten verfügbar
Nanotechnologie-Qualität (99,9–99,99 %).
- Siliziumgehalt: 99,9–99,99 %
- Eisen: ≤10 ppm
- Aluminium: ≤5 ppm
- Kalzium: ≤2 ppm
- Anwendungen: Fortgeschrittene Nanotechnologie, Präzisionsoptik, Spezialelektronik
Quantenqualität (99,999 %+)
- Siliziumgehalt: ≥99,999 %
- Eisen: ≤1 ppm
- Aluminium: ≤0,5 ppm
- Kalzium: ≤0,2 ppm
- Anwendungen: Quantenelektronik, Geräte im atomaren Maßstab, ultrapräzise Halbleiter
Verpackung und Mindestbestellmenge (alle Qualitäten):
- Forschungsproben: vakuumversiegelte 10-g-Fläschchen in hochreinem Argon
- Labormengen: 100g Spezialbehälter mit kontrollierter Atmosphäre
- Standard: 500-g-Ultrareinbehälter mit Reinheit auf molekularer Ebene
- Industriell: vakuumversiegelte 2-kg-Fässer für Nanotechnologieanwendungen
- Großpackung: 5-kg-Spezialbehälter mit Reinheitserhaltung in Quantenqualität
- Mindestbestellmenge: 10 g für Proben, 500 g für Forschungszwecke, 5 kg für Großhandelspreise
- Verpackung in Quantenqualität mit <0,1 ppm Gesamtverunreinigungen
